南部義経堂
会社概要  お問い合わせ



                                  
NEW>>「生産性向上の重要ポイント」「ポカヨケシステム(オーダーメード型)」



 光学薄膜設計解析システム -YCD Ver.7.0-

 GA理論、最小勾配法、DLS法などを用い局所解に陥らない技法で、最適設計を行います。


光学薄膜設計解析システムは、性能を向上させた新バージョンを開発中です。

主な機能と特長  

 波長解析 
  解析波長は150~2000nmの5nm間隔、N(屈折率)は0.1~5.5、K(消衰係数)は0~20、D(膜厚)は0~1000nm/層設計層数は100層までの
  範囲で設計解析が可能です。

 単層薄膜光学定数解析
  単層薄膜光学定数解析は、分光反射透過率デ-タ(日立、島津、日本分光等のテキストファイル)から、NKDを自動またはマニュアルで解析可能です。

 成膜最適設計 
  成膜最適設計は、NKDを任意に可変可能でき、既存材料、仮想(新規理想)材料の組合せも可能です。また入射角度や、基板条件(片面、裏面反射)、
  入射条件(膜面、裏面入射)の設定も可能です。

 設計結果のリアルタイム描画処理 
  設計結果は、NKD、反射率、透過率、PS波別、及び位相角変化、CIEXy色度等を、リアルタイム描画処理で確認できます。

 膜厚やガス補間による最適設計 
  単層薄膜の解析デ-タが蓄積されてきた場合、膜厚やガス補間による最適設計が可能となります。
  
 設計解析の計算・描画はリアルタイムデータ処理により、ストレスなく結果を表示

 >独自のリアルタイムデータ処理について



 
 光学薄膜設計解析システムの解析例


 単層薄膜解析例

○○○○○○○○イメージ >文献からAgの分光反射透過率(400-1000nm)を解析した結果です。

 1 解析条件
  基板 N1.52 K0の片面反射
  膜面入射で入射角度は0とした。
  N解析範囲 0.10 - 3.00
  K解析範囲 0.00 - 10.00
  D解析範囲 0.10 - 100.00nm
 2 解析結果
  膜厚 21.45nm
  N 0.14-0.18 K1.8-5.9
  測定分光RTと解析RTは、全波長で一致しています。


 最適設計例

 >要求仕様
  1 350-800nmで、反射率0.325,透過率0.325
 >最適設計条件
  1 材料は全て仮想(新規)材料とした。
  2 屈折率は1.25-3.5の範囲、消衰係数は0-5.0、
   膜厚は5-100nm
  3 基板条件は、N1.52 K0、片面反射
  4 入射条件は、膜面入射、角度0
  5 成膜層数は6層
 >最適結果
  仕様波長範囲で、反射、透過率の全誤差は0.9


 CIEXy色度図、及びLAB変換例

 >上記の成膜設計を、反射率に着目したXy色図表です。

 反射率--RGB値--XYZ刺激値--Lab変換値は、リアルタイムで計算表示されています。




 よくあるご質問

 Q.波長分散がある屈折率(N)、消衰係数(K)の最適設計はできますか?

 A.可能です。波長別にNKは任意に設計可能です。またセルマイヤ分散定数(N=AB K=CDE)によるNKの最適化も可能です。


 Q.膜面入射、裏面入射の同時最適設計はできますか?

 A.YCDVer7では、どちらかの入射タイプでしか最適設計はできません。(現在、開発中です)


 Q.分光反射透過率は、どのメ-カに対応していますか?

 A.島津製作所、日立金属、日本分光社製のテキスト形式(拡張子がtxt,csv,asc等)の反射透過率に対応しています。
   これ以外のメ-カ-またはバイナリ形式の場合は、ご相談ください。無償にて対応いたします。


  Q.単層薄膜解析時、膜厚は検出はできますか?

 A.膜厚0.01~1000nmの範囲で、自動検出機能があります。

 
 Q.YCDVer6とVer7は、どこが違うのですか?またバ-ジョンアップはできるのですか?

 A.YCDVer7の新機能として、
  1 広角度入射での最適設計が可能となりました。
  2 裏面入射の最適設計が可能となりました。
  3 CIExy色図表示やLAB変換がリアルタイムで計算されます
  4 デ-タファイルは完全互換性がありますので、Ver7以前の蓄積されたデ-タは、Ver7でも設計解析可能です。

 
 Q.単層薄膜解析や最適設計は、どのようなアルゴリズムを採用しているのですか?

 A.GA理論、最小勾配法、DLS法などを用い局所解に陥らない技法で、解析しています。

 
 Q.単層薄膜解析時、測定分光デ-タと解析結果の誤差があるのですが、原因は何が考えられますか?

 A.次の原因や設定が考えられます。
  1 モニタ基板のタイプ設定(片面反射か、裏面多重反射か)
  2 膜面入射か、裏面入射かの設定
  3 入射角度の設定値
  4 モニタ基板のNK波長分散の設定確認(初期値はN1.52 K0の均質NKです)
  5 成膜終了時(チャンバ-などからの取り出し後)、温度や湿度変化等の要因で、単層薄膜ではなく2層薄膜と
    なってはいないかの確認(最適設計メニュ-で解析できます) 
  6 解析膜厚、N,Kの範囲設定を見直してください。

 
 Q.設計時、経時変化や耐応力歪対策等で、特殊固定層を含んだ設計はできるのですか?

 A.可能です。最適設計設定メニュ-で、固定層が選択できます。

 
 Q.設計時、物質XXXの材料特性例として、膜厚15-20nm、反応ガス50-60CCのNKデ-タが
   あるのですが(N1.55-2.25、K0.25-0.35)、これらの膜厚やガス量の最適設計はできるのですか?

 A.可能です。膜厚補間またはガス補間及び膜厚ガス補間は、波長別NKの最適設計が可能で、最適膜厚とガス量が計算されます。

 
 Q.省エネ、生産効率アップのため、成膜層数を減らそうと考えています。
   まず始めにNKの最適理想材料を見つけ出したいと考えていますが、このような最適設計はできるのですか?

 A.可能です。最適設計メニュ-で、仮想材料が選択できます。貴社で既に単層薄膜の成膜実績のあるNKに近い値を設定されれば、
   より実在する材料が候補として挙がります。

 
 Q.波長範囲350nmから800nmで、透過率0.2,反射率0.3という要求仕様です。生産効率のため、
   成膜層数は5層以内に抑えたいのですが、このような最適設計はできるのですか?

 A.可能です。NKは波長分散がある仮想材料として、はじめに最適設計を試みてください。
   その後、成膜実績のあるNKに近い絞り込み最適設計を行なうか、または既存材料の膜厚や反応ガス、
   基板温度等の成膜条件の可変により、仮想材料特性に近い物質を生成することがポイントになります。  


 Q.関連質問です。
   上記仕様の薄膜は成膜生産可能となりましたが、薄膜に経時変化が発生している様子です。有効な対策はありますか?

 A.1 YCDは、分光、単層薄膜解析、最適設計、材料デ-タなどは、すべてデ-タベ-ス化されていますので、同一材料で
    複数回の成膜解析を行い、このNK分析をベ-スとして経時変化を予測した最適設計を試みてください。
   2 スパッタの場合、Kが比較的大きい値となる物質は、波長別の経時変化が大きくなる場合があります。
    これらは成膜前後の条件設定で、大幅に改善された事例がありますので、設計と解析結果の相関を十分に把握することがポイントです。













Page Top▲





 会社概要  お問い合わせ  個人情報保護方針

  © 2016 NAMBU YOSHITSUNEDO All rights reserved.